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OVERVIEW

以客户为中心的技术

MELcon, 与国内外企业同台公平竞争

提供超精密环境控制解决方案

MELcon株式会社是一家专注于半导体制造环境的超精密环境控制专业企业,

主要生产用于维持半导体设备内部超精密温湿度, 洁净环境,提升设备性能与可靠性的各类产品。

1. 晶圆制造
2. 氧化
3. 光刻
4. 刻蚀
5. 沉积 & 离子注入
6. 金属布线
7. EDS
8. 封装

涂胶及显影

  • THC
  • 通过超精密温湿度控制, 管控晶圆的PR均匀度

    控制工艺Spin过程产生的热

曝光

  • XCDA
  • 向曝光机光学模组供给CDA

    将普通CDA提纯至高纯度, 抵御外部污染

  • 涂布工序

  • 在晶圆表面均匀涂布感光材料光刻胶 (PR, Photo Resist)

  • 曝光工序

  • 光线透过刻有电路图案的掩膜版, 在涂布光刻胶的晶圆上印制电路

  • 显影工序

  • 通过选择性去除经曝光(Exposure) 后感光膜(PR) 上受光区域或未受光区域, 留下图案的工艺